|
|
|||||||
|
СВЧ-модификация технологических процессов Предлагаем модификацию технологических процессов с принципиальным повышением качества выходной продукции проводить с помощью СВЧ – модулей с использованием низкотемпературной плазмы при встраивании плазматрона в технологическую цепочку. Для каждой технологической задачи существует свое оптимальное решение в зависимости от технологических требований, предъявляемых к составу, размерам и энергетическим параметрам плазменной струи.Различные СВЧ – плазматроны могут применяться для:
|
| 1. СВЧ - плазматрон с волноведущей системой на волноводе с модой Е01 Электродинамическая схема СВЧ - плазматрона схематично представлена на рис.1.
Рис.1 Вид плазмоида внутри рабочей камеры плазмотрона такого типа представлен на Рис.2
Рис.2 Инициирование плазмы в рассматриваемом устройстве осуществляли энергией разряда конденсатора ёмкостью 3 МкФ, заряженного до напряжения 2 кВ. Плазматрон работал от магнетрона мощностью 1,5 – 2,5 кВт с рабочей частотой 2,45 МГц. Мощность подавалась через стандартный волновод. С помощью штыря связи СВЧ энергия поступала в цилиндрический волновод, возбуждаемый на волне типа E10. Силовые линии электрического поля E в камере плазмотрона показаны пунктирными линиями. Вихревой поток рабочего газа и так называемая зона рециркуляции (совпадающая с положением плазмоида) формировалась системой трубок газовой магистрали с тангенциальными входными отверстиями в камере. В экспериментах коэффициент отражения по мощности в «горячем» режиме был относительно велик: при мощности питающего СВЧ генератора 1,5 – 2,5 кВт уровень отраженной мощности в тракте достигал 400-500 Вт. Особенность плазматрона данного типа:
2. СВЧ - плазматрон атмосферного давления На рис. 3 показан безэлектродный СВЧ - плазматрон атмосферного давления
Рис.3 Назначение Плазматрон предназначен для создания интенсивных ионизированных потоков различных газов и дисперсных порошковых смесей высокой чистоты в областях применения:
Принцип действия СВЧ - плазматрона Плазмоид, представляющий собой свободно локализованный СВЧ - разряд, создается в газовой среде под действием энергии электромагнитного поля в цилиндрическом волноводе, возбуждаемом на моде E01 СВЧ - колебаний. Такая волноводная система имеет две «пучности» (максимум напряженности электрического поля) у центров выходных торцевых стенок. Ввод СВЧ излучения в камеру осуществляется по стандартному волноводу с помощью возбуждающего штыря, расположенного у торцевой стенки волновода. У противоположного торца (с выходным отверстием) создаются условия для инициирования СВЧ пробоя газа с образованием и поддержанием в стационарном состоянии свободно парящего плазмоида. Особенности конструкции.
Другим важным параметром, определяющим работу плазмотрона и характеристики плазменной струи, является мощность источника СВЧ излучения: мощность СВЧ излучения и величины расхода газа тесно взаимосвязаны. Варианты исполнения А) Компактные СВЧ – плазматроны, работающего на частоте ≥ 2 ГГц, с малогабаритными источниками СВЧ - излучения мощностью 1-5 кВт могут применяться в тонких технологиях плазмохимии (травление подложек чипов и других изделий микроэлектроники; получение малых количеств нанопорошков драгоценных металлов и сплавов и т.д.)
Б) В составе крупных промышленных установок. Целесообразно применение серийно выпускаемых промышленных магнетонов мощностью 50-100 кВт с частотой излучения 915 МГц. При этом геометрические размеры волноводного тракта и собственно камеры плазмотрона возрастают пропорционально длине волны СВЧ излучения. Основные преимущества СВЧ - плазматронов данного типа:
3. Прямоточный СВЧ – плазматрон по схеме В.И.Капустина Схема плазмотрона изображена на рис.4.
Рис.4 Особенности конструкции. В разрядную камеру СВЧ энергия подается через волноведущую систему, а плазмообразующий газ - через сопловой блок. Волноведущая система обеспечивает возбуждение электрического поля с продольной поляризацией в разрядной камере. Особенность соплового блока заключается в формировании многоструйного потока плазмообразующего газа. Конструкция сопла обеспечивает интенсивное охлаждение разрядной камеры, выполненной из фторопласта, предотвращая её от разрушения. Большое значение имеет соотношение расхода плазмообразующего газа и мощности СВЧ генератора, эти два параметра тесно взаимосвязаны. Оптимизация СВЧ – плазматронов Работу по оптимизации геометрических, электродинамических и газодинамических параметров плазматрона с учетом характеристик области энерговыделения и свойств плазмоида, готовы проводить под конкретные технологические задачи. |
| Вы находитесь здесь: Главная страница -> Пиролиз -> СВЧ-модификация |
|
|
|||||||
|
|
|
|||||||
![]() |
||||||||